Просмотр публикации #445


Редактор : Соловьев А. В.

Дата создания: 2008-09-08 15:58:36
Дата модификации: 2008-09-08 15:58:36

Наименование :

Авторы :
Фамилия
Имя
Отчество
Вклад

Выходные данные :
Eletskii, A. V. Fundamental Atomic Plasma Chemistry for Semiconductor Manufacturing Process Analysis [Text] / Ventzek P. L. G., Kudrya V., Astapenko V. [et al.] // J. Appl. Phys. – 2003.

Атрибуты библиографической записи

Объект библиографического описания


Язык :
Форма работы :
Категория работы :
Вид публикации для ИАИС :
Общее обозначение материала :
Наименование издания :
Год издания :
Номер издания :
Местоположение (номера страниц) :
Количество страниц (объём) :
Примечание к форме 16 :

Сведения об ответственности :



Статус : Отправлена на проверку

PetrSU | DIMS&PhE | Contact Us | © 2008 Lab127 Team