Просмотр публикации #440


Редактор : Соловьев А. В.

Дата создания: 2008-09-06 23:14:43
Дата модификации: 2008-09-06 23:14:43

Наименование :

Авторы :
Фамилия
Имя
Отчество
Вклад

Выходные данные :
Velichko, A. A. Development of vanadium-oxide resist by reactive etching in chlorine plasma [Text] / A. A. Velichko, N. A. Kuldin, G. B. Stefanovich, A. L. Pergament // 20th General Conference of Condensed Matter Division EPS, Prague, July 2004. Book of Abstracts. – Prague, 2004. – P. 140.

Атрибуты библиографической записи

Объект библиографического описания


Язык :
Форма работы :
Категория работы :
Вид публикации для ИАИС :
Общее обозначение материала :
Наименование издания :
Сведения об ответственности издания :
Место издания (город) :
Издательство :
Год издания :
Местоположение (номера страниц) :
Количество страниц (объём) :
Примечание к форме 16 :



Статус : Проверена

PetrSU | DIMS&PhE | Contact Us | © 2008 Lab127 Team